现在市面上的培育钻石，主要基本上是由高温高压（HPHT）和化学气相沉积法（CVD)两种方式培育出来的钻石。今天就来说一说两种方式中的其中一种化学气相沉积法（CVD)的发展现状。
1、什么是CVD培育钻石
化学气相沉积(CVD)是指化学气相蒸镀使用一种或多种气体，在加热的固体基材上发生化学反应，并镀上一层固态薄膜。所谓CVD（ChemicalVaporDeposition化学气相沈淀）钻石是以一块天然钻裸石为母石，利用高纯度甲烷、加上氢、氮等气体辅助，在微波炉中以高压方式，让甲烷中与钻石一样的碳分子不断累积到钻石原石上，经过一层层增生，可形成大至10克拉的透明钻石。为使CVD的钻石生长顺利，碳源常用已具钻石结构的甲烷。甲烷可视为以氢压出的单原子钻石。这种「长大」的钻石，品质与天然钻石几无二致，肉眼难辨。
2、第一颗CVD培育钻石的诞生
1952年，美国联邦碳化硅公司的科学家威廉·艾弗索运用化学气相沉积法（ChemicalVaporDeposition，简称CVD）让含碳的气体不断沉积在钻石籽晶上，逐渐积聚和硬化形成钻石。这是全球第一颗CVD培育出来的钻石。
3、CVD培育钻石的优势
CVD培育出来的钻石可以达到宝石级，产量大，生产时间短，净度可达到VS级以上。随着技术的发展，CVD培育钻石不管是颜色、净度、克拉重量各个方面都不断的在加强。
4、CVD培育钻石全球发展现状
21世纪以来，全球CVD培育技术的研发迎来突破性的进展，最近随着培育钻石市场的大热，技术更新明显加快。具有大批量生产宝石级CVD钻石培育能力的国家主要是，中国、美国、印度、新加坡四个国家。
其中，在美国消费者对培育钻石的接受程度很高，培育钻石市场相对成熟稳定，随着生产商投资规模不断扩大。例如自美国Diamond Foundry的可持续钻石，零碳足迹，零开采，在VRAI工厂中按照国际严格进行切割和抛光。
